Plaque chauffante analogique SHP-200

avec platinemultiposte

Description

• Réalise simultanément des opérations de chauffage et d'agitation multiples
• Chaque position d'agitation est contrôlée individuellement pour des vitesses indépendantes
• Montée en température rapide jusqu'à 450 °C
• Commandes en façade positionnées pour limiter le contact avec la surface chaude
• Surface supérieure en céramique pleine, résistante à la corrosion et aux produits chimiques, facile à nettoyer

Détails
Ces plaques chauffantes agitantes analogiques offrent une polyvalence supérieure aux unités monoposition. Chaque position d'agitation est réglable indépendamment et peut fonctionner de 100 à 1500 rpm. Le bouton de chauffe analogique règle la plage de température de 100 à 450 °C et dispose de deux positions à réglage rapide (HI et LO). Des voyants distincts indiquent l'activation de l'agitation et du chauffage. La surface supérieure en céramique pleine (30,5 x 30,5 cm / 12” x 12”) chauffe rapidement et ne se déformera pas.

Configurations disponibles (résumé)
Volume maximal d'agitation par position (Litres) | Nombre de positions d'agitation | Alimentation (VAC)
0.8 | 5 | 120
0.4 | 9 | 120
0.8 | 5 | 230
0.4 | 9 | 230

Caractéristiques techniques

• Série : SHP-200 Series
• Vitesse d'agitation : 100 à 1500 rpm (chaque position contrôlée individuellement)
• Plage de température du chauffage : 100 °C à 450 °C ; température maximale 450 °C
• Commandes de chauffage : bouton analogique avec deux positions à réglage rapide (HI et LO)
• Voyants : voyants séparés pour l'activation de l'agitation et du chauffage
• Surface supérieure : céramique pleine, résistante à la corrosion et aux produits chimiques, facile à nettoyer
• Dimensions de la surface : 30,5 x 30,5 cm (12” x 12”)
• Volume d'agitation maximal par position : typiquement 0,8 L (5 positions) ou 0,4 L (9 positions) selon la configuration
• Nombre de positions d'agitation : variantes 5 positions et 9 positions disponibles
• Options d'alimentation : disponibles en 120 VAC et 230 VAC
• Applications adaptées : chauffage simultané et opérations d'agitation multiples en environnements de laboratoire