Le FIB-SEM Hitachi Ethos intègre un FE-SEM de dernière génération offrant une luminosité et une stabilité de faisceau exceptionnelles. L'Ethos permet d'obtenir des images haute résolution à basse tension, associées à une optique ionique pour un traitement de précision à l'échelle nanométrique.
Caractéristiques
Caractéristiques principales
1. Colonne FE-SEM haute performance avec mode à double lentille
Observation en ultra-haute résolution (mode HR : semi-in-lens)
Détection de fin de course en temps réel et haute précision (mode FF : Field Free (mode de partage de temps))
2. Traitement des matériaux à haut débit
Traitement ultra-rapide avec une densité de courant ionique élevée (courant de faisceau max. : 100 nA)
Script programmable par l’utilisateur pour le traitement et l’observation automatiques
3. Système de micro-échantillonnage
Contrôle entièrement intégré de l’orientation de l’échantillon pour l’effet anti-curtaining (technologie ACE)
Préparation d’échantillons pour microscopie électronique à transmission (TEM) permettant d’obtenir des lamelles uniformes quelle que soit leur orientation
4. Compatibilité avec le triple faisceau, garantissant des résultats de qualité supérieure
Traitement des matériaux par faisceau d’ions de gaz noble à faible accélération
Des fonctions innovantes réduisent les artefacts liés aux ions Ga et autres artefacts de meulage
5. Grande chambre multiport et platine pour diverses applications
Système capable d’accueillir des échantillons de grande taille avec une stabilité exceptionnelle de la platine
Suivi à longue distance amélioré sur toute la plage (155 x 155 mm)
Optique électronique perfectionnée et détection multisignal
La colonne du SEM Ethos est composée d’un système d’objectifs combinant champs magnétiques et électrostatiques, configuré selon deux modes de lentilles. Le mode haute résolution (HR) permet d’observer l’échantillon avec une résolution optimale en l’immergeant dans le champ magnétique du système de lentilles. Le mode « Field Free » (FF) offre un traitement FIB en temps réel pour un usinage de fin de course de haute précision.
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